レーザーマイクロトリミング装置 LMT-HRシリーズ

独自の光学設計、位置決め技術により、アナログ・メモリー半導体のヒューズカットに対応します。

レーザー光源、光学系、ステージ等の主要部品は日本製を採用し、安定供給を実現しました。
4~12インチまでご要望に応じて対応します。
独自の光学設計・位置決め技術により、従来よりも高精度なトリミングを実現、半導体ウエハの不良配線カットや、ICチップ内のヒューズカットを行い、抵抗値を調整します。

レーザーマイクロトリミング装置 LMT-HRシリーズ

プロセス適用事例

アナログ半導体ヒューズカット
メモリーリペア

プロセス適用事例

加工例

加工例
加工例

Laser Spot: Φ4um

加工例

Laser Spot: Φ6um

LMT-HRシリーズ 仕様表

レーザー光源 DPSS Laser (Class 4)
レーザー波長 1342nm
レーザー周波数 30KHz
レーザーパルス幅 20ns
パルスエネルギー Max 10uJ/Pulse
スポットサイズ Φ2~6μm(可変)
ウェーハサイズ 4~12inch(対応品種により、一部オプション)
アライメント精度 ±0.2μm(弊社TEG基板による測定)
処理時間 ≦10min.(Φ6inch, 50万shot, 300Line)